Industrial implementation of plasma deposition using the expanding thermal plasma technique

Autor: Sanden, van de, M.C.M., Oever, van den, P.J., Creatore, M., Schaepkens, M., Miebach, T., Iacovangelo, C.D., Bosch, R.C.M., Bijker, M.D., Evers, M.F.J., Schram, D.C., Kessels, W.M.M.

Publikováno v: 47th annual technical conference proceedings / Society of Vacuum Coaters : April 24-29, 2004, Dallas, Texas, USA, 447-454
STARTPAGE=447;ENDPAGE=454;TITLE=47th annual technical conference proceedings / Society of Vacuum Coaters : April 24-29, 2004, Dallas, Texas, USA

Two successful industrial implementations of the expanding thermal plasma setup, a novel plasma source, obtaining high deposition rate are discussed. The Ar/O2/hexamethyldisiloxane and Ar/O2/octamethyl-cyclosiloxane-fed expanding thermal plasma setup

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::e89c2c16d67c6427e6abc5cae4898b40
https://research.tue.nl/nl/publications/be297518-18f7-40d8-9b91-1a1bdafd1c28

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Thermal stability of metallized CVD diamond

Autor: Iacovangelo, C.D

Publikováno v: In Thin Solid Films 1996 286(1):264-269