Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"I.L. Wu"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
J.K. Ting, Yung-Shun Chen, Shu-Tine Yang, F.C. Yang, I.L. Wu, T.L. Hsu, K.C. Ting, Yu-Ling Lin, J.T. Tzeng, S.S. Chang, S.J. Chent, M.H. Chiang, Chung-Cheng Wu, Ming-Huan Tsai, Chun-Hsiung Lin, Jhon-Jhy Liaw, Kuei-Shun Chen, Jiunn-Ren Hwang, Meikei Ieong, W. Chang, T. Yamamoto, Shu-Chun Yang, Yuh-Jier Mii, R. Chen, S.M. Jang, Chun-Kuang Chen, J.Y. Cheng, Jyh-Cherng Sheu, Tze-Liang Lee, L.C. Lu, C.M. Liu, Carlos H. Diaz, Yi-Ming Sheu
Publikováno v:
CICC
An industry leading 28nm high-performance mobile SoC technology featuring metal-gate/high-k process is presented. The technology is optimized to offer wide power-to-performance transistor dynamic range and highest wired gate density with superior low
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::bd6ff1d42f1120242abf6866741847b4
https://doi.org/10.1109/cicc.2011.6055355
https://doi.org/10.1109/cicc.2011.6055355
Autor:
F.L. Hsiao, W.Y. Lien, C.T. Li, Y.C. Sun, T.L. Chen, K.C. Wu, Y.H. Chiu, H.J. Tao, C.H. Huang, K.H. Chen, P.W. Wang, C.H. Wu, L.T. Lin, Yuh-Jier Mii, H.C. Tuan, Y.H. Liu, I.L. Wu, H.C. Lo, D.H. Lee, W.Y. Lu, C.F. Cheng, K.Y. Chen, S.K.H. Fung
Publikováno v:
2007 IEEE International Electron Devices Meeting.
45 nm SOI CMOS technology target for high performance CPU application is reported. Process induced strained CMOS demonstrates 1232/855 uA/um DC Ion at 100 nA/um Ioff under Vdd=lV, which is the highest ever reported performance at 45 nm ground rule fo
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::0639b1de7274beda31aba4692a9f2930
https://doi.org/10.1109/iedm.2007.4418928
https://doi.org/10.1109/iedm.2007.4418928
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.