Zobrazeno 1 - 7
of 7
pro vyhledávání: '"I. Seethalakshmi"'
Publikováno v:
Physics of Semiconductor Devices ISBN: 9783319030012
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICPRIE) of Gallium Arsenide (GaAs) using BCl3/Cl2/Ar plasma was carried out for Photonic Crystal (PhC) applications. The recipe was optimized by varying various etch parameters. While the addition of N
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::96c3cbc02d77612f0de80953cc534f97
https://doi.org/10.1007/978-3-319-03002-9_175
https://doi.org/10.1007/978-3-319-03002-9_175
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.