Zobrazeno 1 - 10
of 19
pro vyhledávání: '"I. Seethalakshmi"'
Publikováno v:
Physics of Semiconductor Devices ISBN: 9783319030012
Inductively Coupled Plasma Reactive Ion Etching (ICPRIE) of Gallium Arsenide (GaAs) using BCl3/Cl2/Ar plasma was carried out for Photonic Crystal (PhC) applications. The recipe was optimized by varying various etch parameters. While the addition of N
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::96c3cbc02d77612f0de80953cc534f97
https://doi.org/10.1007/978-3-319-03002-9_175
https://doi.org/10.1007/978-3-319-03002-9_175
Publikováno v:
Indo Global Journal of Pharmaceutical Sciences. 2/20/2022, p145-152. 8p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 2023, Vol. 2752 Issue 1, p1-5, 5p
Autor:
Okhapkin, A. I.1 andy-ohapkin@yandex.ru, Yunin, P. A.1, Drozdov, M. N.1, Kraev, S. A.1, Skorokhodov, E. V.1, Shashkin, V. I.1
Publikováno v:
Semiconductors. Nov2018, Vol. 52 Issue 11, p1473-1476. 4p.