Zobrazeno 1 - 10
of 52
pro vyhledávání: '"Hwang Han-Na"'
Publikováno v:
In Current Applied Physics March 2019 19(3):215-218
Autor:
Baik, Jaeyoon, Kang, Se-Jun, Hwang, Han-Na, Hwang, Chan-Cuk, Kim, Ki-Jeong, Kim, Bongsoo, An, Ki-Seok, Park, Chong-Yun, Shin, Hyun-Joon
Publikováno v:
In Surface Science February 2012 606(3-4):481-484
Publikováno v:
In Surface Science 2011 605(7):649-653
Autor:
Kim, Chang Oh, Kim, Sung, Oh, Hyoung Taek, Choi, Suk-Ho, Shon, Yoon, Lee, Sejoon, Hwang, Han Na, Hwang, Chan-Cuk
Publikováno v:
In Physica B: Physics of Condensed Matter 2010 405(22):4678-4681
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Kim, Sung, Lee, Do Kyu, Hong, Seung Hui, Eom, Sung Hwan, Oh, Hyoung Taek, Choi, Suk-Ho, Hwang, Han Na, Hwang, Chan Cuk
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; Jan2008, Vol. 103 Issue 2, p023514, 4p, 4 Graphs
Autor:
Hai-Won Kim, Shin Seung-Woo, Jeong Choon-Sik, Wooduck Jung, Hwang Han-Na, Ryong Hwang, Ilsub Chung, Park Seong-Jin, Sergey N. Zaretskiy
Publikováno v:
ECS Transactions. 53:321-329
We have researched low temperature silicon oxide (SiO2) with improved electrical properties and excellent film step-coverage. In-situ O2 plasma densification (DENSIFICATION) effect on SiO2 that has been deposited by PE-ALD at temperature (2 network d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::faf75247093147642c9816e16a74e3c0
https://doi.org/10.1149/05301.0321ecst
https://doi.org/10.1149/05301.0321ecst
Autor:
Ryong Hwang, Hai-Won Kim, Jeong Choon-Sik, Hwang Han-Na, Wooduck Jung, Kim Seok-Yun, Shin Seung-Woo, Ilsub Chung
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films. 33:01A146
Chemical, physical, and electrical characteristics of high quality silicon dioxide (SiO2) films grown using low temperature plasma enhanced atomic layer deposition (PE-ALD) have been investigated as a buffer layer for three dimensional vertical nand
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::4b8bc034661e6a3e51f7c97923fd2565
https://doi.org/10.1116/1.4904147
https://doi.org/10.1116/1.4904147
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.