Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Hoshida, Hirofumi"'
Autor:
Sato, Takuma, Hoshida, Hirofumi, Takabe, Ryota, Toko, Kaoru, Terai, Yoshikazu, Suemasu, Takashi
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 2018, Vol. 124 Issue 2, pN.PAG-N.PAG, 8p, 3 Diagrams, 5 Charts, 10 Graphs
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
TOKO, Kaoru, SUEMASU, Takashi, Benincasa, Louise, Hoshida, Hirofumi, Deng, Tianguo, Sato, Takuma, Xu, Zhihao, Terai, Yoshikazu
Publikováno v:
Journal of Physics Communications. 3(7):075005
Photoluminescence (PL) measurements were carried out on 0.5-μm thick BaSi2 epitaxial films grown on Si(111) substrates with various Ba-to-Si deposition rate ratios (R Ba/R Si) in the range of 1.7–5.1. The samples were excited from both the frontsi
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=jairo_______::47de8711a797eba14a7646b2ea0d1937
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/records/54118
https://tsukuba.repo.nii.ac.jp/records/54118
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
AIP Advances; Oct2018, Vol. 8 Issue 10, pN.PAG-N.PAG, 9p
Publikováno v:
Diffusion and Defect Data Part A: Defect and Diffusion Forum; September 2018, Vol. 386 Issue: 1 p38-42, 5p
Publikováno v:
Diffusion and Defect Data Part A: Defect and Diffusion Forum; September 2018, Vol. 386 Issue: 1 p43-47, 5p