Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Homer Lem"'
Publikováno v:
Microelectronic Engineering. :315-318
Several optical resists based on diazonaphthoquinone(DNQ)/novolac chemistry were evaluated for maskmaking application in the 130 nm device generation. Initial screening was performed at 10 kV with additional optimization at 50 kV. To enhance the elec
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::32a09316a8828d745df5c820446615d2
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00072-0
https://doi.org/10.1016/s0167-9317(98)00072-0
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.