Zobrazeno 1 - 10 of 17 pro vyhledávání: '"Holber, W. M."'
1
Akademický článek
Control of the motion of neutral molecules by a beam of electrons.
Autor: Greene, E. F., Holber, W. M., Lambropoulos, H. D.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; Aug1980, Vol. 73 Issue 3, p1212-1221, 10p
Zobrazit plný text záznamu
2
Conference
ECR Plasma Reactors for Semiconductor Manufacturing.
Autor: Holber, W. M., Caughman, J. B. O.
Publikováno v: AIP Conference Proceedings; Jan1992, Vol. 244 Issue 1, p333-339, 7p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Particle behaviour in an electron cyclotron resonance plasma etch tool.
Autor: Blain, M G, Tipton, G D, Holber, W M, Selwyn, G S, Westerfield, P L, Maxwell, K L
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; 1994, Vol. 3 Issue 3, p325-333, 9p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Wavelength-modulated interferometric thermometry for improved substrate temperature measurement.
Autor: Saenger, K. L., Tong, F., Logan, J. S., Holber, W. M.
Publikováno v: Review of Scientific Instruments; Aug1992, Vol. 63 Issue 8, p3862, 7p
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Temperature and concentration effects on ozone ashing of photoresist.
Autor: Gardner, W. L., Baddorf, A. P., Holber, W. M.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1997, Vol. 15 Issue 3, p1409-1412, 4p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Effects of substrate bias frequency in an electron cyclotron resonance plasma reactor.
Autor: Caughman, J. B. O., Holber, W. M.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1993, Vol. 11 Issue 6, p2897-2902, 6p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Copper deposition by electron cyclotron resonance plasma.
Autor: Holber, W. M., Logan, J. S., Grabarz, H. J., Yeh, J. T. C., Caughman, J. B. O., Sugerman, A., Turene, F. E.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1993, Vol. 11 Issue 6, p2903-2910, 8p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
GaAs surface oxidation and deoxidation using electron cyclotron resonance oxygen and hydrogen plasmas.
Autor: Lu, Z., Schmidt, M. T., Osgood, R. M., Holber, W. M., Podlesnik, D. V.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1991, Vol. 9 Issue 3, p1040-1044, 5p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Ion energetics in electron cyclotron resonance discharges.
Autor: Holber, W. M., Forster, J.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1990, Vol. 8 Issue 5, p3720-3725, 6p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
A fluid description for the discharge equilibrium of a divergent electron cyclotron resonance plasma source.
Autor: Guan, G., Mauel, M. E., Holber, W. M., Caughman, J. B. O.
Publikováno v: Physics of Fluids B: Plasma Physics; Dec92, Vol. 4 Issue 12, p4177, 10p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje