Zobrazeno 1 - 6 of 6 pro vyhledávání: '"Hofmann, Uli"'
2
Conference
Mask repair using layout-based pattern copy for the 65-nm node and beyond.
Autor: Boegli, Volker, Auth, Nicole, Hofmann, Uli
Publikováno v: Proceedings of SPIE; Nov2006 Part 2, Issue 1, p63491G-63491G-8, 8p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Fundamental performance of state-of-the-art proximity effect correction methods.
Autor: Hofmann, Uli, Crandall, Richard, Johnson, Leslie
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1999, Vol. 17 Issue 6, p2940-2944, 5p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Contrast limitations in electron-beam lithography.
Autor: Crandall, Richard, Hofmann, Uli, Lozes, Richard L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1999, Vol. 17 Issue 6, p2945-2947, 3p
Zobrazit plný text záznamu
5
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
6
Periodical
Microlithography process development with lithography simulation.
Autor: Lewellen, John1 support.us@sigma-c.com, Brooker, Peter1, Naber, Bob1, Hofmann, Uli2
Publikováno v: Microlithography World. Feb2005, Vol. 14 Issue 1, p8-10. 3p. 2 Diagrams, 3 Graphs.
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje