Zobrazeno 1 - 10
of 74
pro vyhledávání: '"Hoesler, W."'
Pt/Ti metallisation bilayers are used as bottom electrodes for ferroelectric thin films. During deposition of the ferroelectric films, these electrodes are exposed to elevated temperatures causing modifications of the Pt/Ti bottom electrode. Diffusio
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1502.03413
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 2004 264(1):123-127
Autor:
Rao, V., Morgan, J., Hoesler, W., Barden, J., Karzhavin, Y., Van Holt, P., Petter, R., Ollendorf, H., Christensen, K., Ricks, D.
Publikováno v:
2000 IEEE/SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference & Workshop. ASMC 2000 (Cat. No.00CH37072); 2000, p340-346, 7p
Publikováno v:
Proceedings of the 1997 1st Electronic Packaging Technology Conference (Cat No97TH8307); 1997, p270-276, 7p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Surface Science; 1996, Vol. 345 Issue: 1 p53-63, 11p
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.