Zobrazeno 1 - 10
of 43
pro vyhledávání: '"Ho, Yen Cheng"'
Publikováno v:
In Asian Journal of Psychiatry January 2023 79
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Chang, Li-Ren, Lin, Yu-Hsuan, Kuo, Terry B.J., Ho, Yen-Cheng, Chen, Shiuan-Horng, Wu Chang, Hung-Chieh, Liu, Chih-Min, Yang, Cheryl C.H.
Publikováno v:
In Progress in Neuropsychopharmacology & Biological Psychiatry 27 April 2012 37(1):188-193
Autor:
Stewart, Samantha P., Bell, Steven E.J., Fletcher, Nicholas C., Bouazzaoui, Samira, Ho, Yen Cheng, Speers, S. James, Peters, K. Laota
Publikováno v:
In Analytica Chimica Acta 2012 711:1-6
Autor:
Lin, Yu-Hsuan1, Ho, Yen-Cheng2,3, Lin, Sheng-Hsuan4, Yeh, Yao-Hsien5, Liu, Chia-Yih2,3, Kuo, Terry B. J.6,7, Yang, Cheryl C. H.6,7 accyang@gmail.com, Yang, Albert C.8,9
Publikováno v:
PLoS ONE. Jun2013, Vol. 8 Issue 6, p1-6. 6p.
Autor:
Ta-Cheng Lien, Tzu-Ling Liu, Ho Yen-Cheng, Chien-Cheng Chen, Chia-Jen Chen, Anthony Yen, Chih-Cheng Lin, Shao-Wen Chang, Hsin-Chang Lee
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The authors present a detailed observation of the charge-induced pattern positioning errors (CIPPEs) in a variableshape e-beam writer on an opaque-MoSi-over-glass (OMOG) mask by directly measuring the pattern shifts using a mask registration tool. Th
Autor:
Ho, Yen-Cheng
In recent years, Raman spectroscopy has become popular in forensic science. However, most of the work in this area has used laboratory-based, research grade instruments. The aim of this thesis was to establish new methods for forensic Raman analysis
Externí odkaz:
http://ethos.bl.uk/OrderDetails.do?uin=uk.bl.ethos.676519
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Anthony Yen, Ho Yen-Cheng, Hsin-Chang Lee, Ta-Cheng Lien, Chia-Jen Chen, Chien-Cheng Chen, Chih-Cheng Lin, Shao-Wen Chang
Publikováno v:
Journal of Micro/Nanolithography, MEMS, and MOEMS. 15:021409
Charging-induced pattern positioning errors (CIPPEs) from a 50-kV variable-shape e-beam writer on an opaque-MoSi-over-glass mask has been carefully characterized by directly measuring the pattern shifts using a high-accuracy mask registration tool. I