Ion projection lithography below 70 nm: tool performance and resist process

Autor: Hirscher, S. ^∗, Kümmel, M., Kirch, O., Domke, W.-D., Wolter, A., Käsmaier, R., Buschbeck, H., Cekan, E., Chalupka, A., Chylik, A., Eder, S., Horner, C., Löschner, H., Nowak, R., Stengl, G., Windischbauer, T., Zeininger, M.

Publikováno v: In Microelectronic Engineering 2002 61:301-307

Large-Field Ion-Optics for Projection and Proximity Printing and for Mask-Less Lithography (ML2)

Autor: Loeschner, H., Stengl, G., Buschbeck, H., Chalupka, A., Lammer, G., Platzgummer, E., Vonach, H., Jager, de, P.W.H., Kaesmaier, R., Ehrmann, A., Hirscher, S., Wolter, A., Dietzel, A.H., Berger, R., Grimm, H., Terris, B.D., Bruenger, W.H., Adam, D., Boehm, M., Eichhorn, H., Springer, R., Butschke, J., Letzkus, F., Ruchhoeft, P., Wolfe, J.C., Engelstad, R.L.

Publikováno v: Emerging Lithographic Technologies VI, Santa Clara, 2002, 595-606
STARTPAGE=595;ENDPAGE=606;TITLE=Emerging Lithographic Technologies VI, Santa Clara, 2002

Recent studies carried out with Infineon Technologies have shown the utility of Ion Projection Lithography (IPL) for the manufacturing of integrated circuits. In cooperation with IBM Storage Technology Division the patterning of magnetic films by res

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::b05634122368f198bd303bb9a17cc43d
https://doi.org/10.1117/12.472336

Collapse of the magnetic moment in a hard superconductor under the action of a transverse ac magnetic field

Autor: Fisher, L. M., Kalinov, A. V., Savel'ev, S. E., Voltshin, I. F., Yampol'skii, V. A., LeBlanc, M. A. R., Hirscher, S.

Publikováno v: Physica C: Superconductivity and its Applications; 1997, Vol. 278 Issue: 3 p169-179, 11p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.