Zobrazeno 1 - 6
of 6
pro vyhledávání: '"Heijmans, Luuk"'
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 7/28/2024, Vol. 136 Issue 4, p1-25, 25p
Autor:
van de Kerkhof, Mark, Yakunin, Andrei M., Kvon, Vladimir, Cats, Selwyn, Heijmans, Luuk, Chaudhuri, Manis, Asthakov, Dmitry
In the past years, EUV lithography scanner systems have entered High-Volume Manufacturing for state-of-the-art Integrated Circuits (IC), with critical dimensions down to 10 nm. This technology uses 13.5 nm EUV radiation, which is transmitted through
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2012.03027
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics, 48, 1-10
We describe a peculiar branching phenomenon in positive repetitive streamer discharges in high purity nitrogen. We name it knotwilg branching after the Dutch word for a pollard willow tree. In a knotwilg branching a thick streamer suddenly splits int
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=narcis______::2752fad04ac79c20b773fcc194842dda
https://ir.cwi.nl/pub/23840
https://ir.cwi.nl/pub/23840
Autor:
Felix, Nelson M., Lio, Anna, van de Kerkhof, Mark, Yakunin, Andrei, Kvon, Vladimir, van de Wetering, Ferdi, Cats, Selwyn, Heijmans, Luuk, Nikipelov, Andrey, Lassise, Adam, Banine, Vadim
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; March 2020, Vol. 11323 Issue: 1 p113230Y-113230Y-12, 11209783p
Autor:
Felix, Nelson M., Lio, Anna
Publikováno v:
Proceedings of SPIE; 1/21/2020, Vol. 11323, p1132301-1132301, 1p