Zobrazeno 1 - 9
of 9
pro vyhledávání: '"Heijman, M. G. J."'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1987, Vol. 5 Issue 3, p647-651, 5p
Autor:
Veprek, S., Wirschem, T., Dian, J., Perna, S., Merica, R., Veprek-Heijman, M. G. J., Heinecke, R., Perina, V.
Publikováno v:
Thin Solid Films; 1997, Vol. 297 Issue: 1 p171-175, 5p
Autor:
Heijman, M. G. J.
Publikováno v:
Plasma Chemistry and Plasma Processing; December 1988, Vol. 8 Issue: 4 p383-397, 15p
Autor:
de Vries, J. W. C., Dam, B., Heijman, M. G. J., Stollman, G. M., Gijs, M. A. M., Hagen, C. W., Griessen, R. P.
Publikováno v:
Applied Physics Letters; 5/30/1988, Vol. 52 Issue 22, p1904, 3p
Publikováno v:
Applied Physics Letters; 12/29/1986, Vol. 49 Issue 26, p1781, 3p
ChemInform Abstract: Open Questions Regarding the Mechanism of Plasma-Induced Deposition of Silicon.
Autor:
VEPREK, S., VEPREK-HEIJMAN, M. G. J.
Publikováno v:
ChemInform; Nov1991, Vol. 22 Issue 46, pno-no, 1p
Autor:
VEPREK-HEIJMAN, M. G. J., BOUTARD, D.
Publikováno v:
ChemInform; Oct1991, Vol. 22 Issue 40, pno-no, 1p