Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"Hean-Cheal Lee"'
Autor:
Hean-Cheal Lee, Jinhan Choi, Hanna Bamnolker, Chan-Lon Yang, Roni Khen, Yan Du, Shashank C. Deshmukh, Meihua Shen, Tito Chowdhury
Publikováno v:
Advances in Resist Technology and Processing XX.
193nm lithography has become increasingly important as the critical dimensions of semiconductor devices continue to scale down towards sub 0.10um dimension. From dry etching perspective, however, 193nm resist brings new challenges due to its poorer p
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::90975c3a7996acfd884fd8043d370490
https://doi.org/10.1117/12.485151
https://doi.org/10.1117/12.485151
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.