Using structural disorder to enhance the magnetism and spin-polarization in FexSi1-x thin films for spintronics

Autor: Karel, J, Zhang, YN, Bordel, C, Stone, KH, Chen, TY, Jenkins, CA, Smith, DJ, Hu, J, Wu, RQ, Heald, SM, Kortright, JB, Hellman, F

Publikováno v: Materials Research Express, vol 1, iss 2

Amorphous FexSi1-x thin films exhibit a striking enhancement in magnetization compared to crystalline films with the same composition (0.45 < x < 0.75), and xray magnetic circular dichroism reveals an enhancement in both spin and orbital moments in t

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::019efd2b20440dd6865b0fca0b2c8cf7
https://escholarship.org/uc/item/49t1t13j

Using structural disorder to enhance the magnetism and spin-polarization in FexSi1-xthin films for spintronics

Autor: Karel, J, Zhang, YN, Bordel, C, Stone, KH, Chen, TY, Jenkins, CA, Smith, DJ, Hu, J, Wu, RQ, Heald, SM, Kortright, JB, Hellman, F

Publikováno v: Karel, J; Zhang, YN; Bordel, C; Stone, KH; Chen, TY; Jenkins, CA; et al.(2014). Using structural disorder to enhance the magnetism and spin-polarization in FexSi1-xthin films for spintronics. Materials Research Express, 1(2). doi: 10.1088/2053-1591/1/2/026102. UC Berkeley: Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/49t1t13j

© 2014 IOP Publishing Ltd. Amorphous FexSi1-x thin films exhibit a striking enhancement in magnetization compared to crystalline films with the same composition (0.45 < x < 0.75), and xray magnetic circular dichroism reveals an enhancement in both s

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::0b1e3a6303227cee09f3ed069f02b5b6
http://www.escholarship.org/uc/item/49t1t13j

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.