Zobrazeno 1 - 10 of 19 pro vyhledávání: '"Hayes, Todd R."'
1
Akademický článek
Electron-impact ionization cross sections of the SiF3 free radical.
Autor: Hayes, Todd R., Shul, Randy J., Baiocchi, Frank A., Wetzel, Robert C., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 10/1/1988, Vol. 89 Issue 7, p4035, 7p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Electron impact ionization cross sections of SiF2.
Autor: Shul, Randy J., Hayes, Todd R., Wetzel, Robert C., Baiocchi, Frank A., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 10/1/1988, Vol. 89 Issue 7, p4042, 6p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Absolute cross sections for electron-impact ionization and dissociative ionization of the SiF free radical.
Autor: Hayes, Todd R., Wetzel, Robert C., Baiocchi, Frank A., Freund, Robert S.
Publikováno v: Journal of Chemical Physics; 1/15/1988, Vol. 88 Issue 2, p823, 7p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Damage to InP and InGaAsP surfaces resulting from CH4/H2 reactive ion etching.
Autor: Hayes, Todd R., Chakrabarti, U. K., Baiocchi, F. A., Emerson, A. B., Luftman, H. S., Dautremont-Smith, W. C.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 7/15/1990, Vol. 68 Issue 2, p785, 8p, 4 Charts, 10 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Methyl radical etching of compound semiconductors with a secondary afterglow reactor.
Autor: Spencer, John E., Schimert, Thomas R., Dinan, J. H., Endres, Darrel, Hayes, Todd R.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1990, Vol. 8 Issue 3, p1690-1695, 6p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
A versatile reactor for ultrahigh vacuum surface modification studies based on a reusable metal sealing system.
Autor: Hayes, Todd R., Evans, John F., Rusch, Thomas W.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1985, Vol. 3 Issue 4, p1768-1773, 6p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Real-time latent image monitoring during holographic fabrication of submicron diffraction gratings.
Autor: Gregus, Jeffrey A., Green, Christian A., Yoon, Euijoon, Ostermayer, Fred W., Hayes, Todd R., Pawelek, Richard, Gottscho, Richard A., Naqvi, S. Sohail H.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1993, Vol. 11 Issue 6, p2468-2472, 5p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Latent image diffraction from submicron photoresist gratings.
Autor: Yoon, Euijoon, Green, Christian A., Gottscho, Richard A., Hayes, Todd R., Giapis, Konstantinos P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 1992, Vol. 10 Issue 5, p2230-2233, 4p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Maskless laser interferometric monitoring of InP/InGaAsP heterostructure reactive ion etching.
Autor: Hayes, Todd R., Heimann, P. A., Donnelly, V. M., Strege, K. E.
Publikováno v: Applied Physics Letters; 12/24/1990, Vol. 57 Issue 26, p2817, 3p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje