Zobrazeno 1 - 10
of 16
pro vyhledávání: '"Hausmann DM"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Xu W; Department of Chemical and Biological Engineering, Colorado School of Mines, Golden, Colorado 80401, USA. sagarwal@mines.edu., Lemaire PC; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, USA. dennis.hausmann@lamresearch.com., Sharma K; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, USA. dennis.hausmann@lamresearch.com., Hausmann DM; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, USA. dennis.hausmann@lamresearch.com., Agarwal S; Department of Chemical and Biological Engineering, Colorado School of Mines, Golden, Colorado 80401, USA. sagarwal@mines.edu.
Publikováno v:
Chemical communications (Cambridge, England) [Chem Commun (Camb)] 2022 Jun 08; Vol. 58 (46), pp. 6650-6652. Date of Electronic Publication: 2022 Jun 08.
Autor:
Merkx MJM; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600MB Eindhoven, The Netherlands., Angelidis A; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600MB Eindhoven, The Netherlands., Mameli A; TNO-Holst Centre, 5656 AE Eindhoven, The Netherlands., Li J; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600MB Eindhoven, The Netherlands., Lemaire PC; Lam Research Corporation, Tualatin, Oregon 97062, United States., Sharma K; Lam Research Corporation, Tualatin, Oregon 97062, United States., Hausmann DM; Lam Research Corporation, Tualatin, Oregon 97062, United States., Kessels WMM; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600MB Eindhoven, The Netherlands., Sandoval TE; Department of Chemical and Environmental Engineering, Universidad Técnica Federico Santa María, 8940000 Santiago, Chile., Mackus AJM; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, 5600MB Eindhoven, The Netherlands.
Publikováno v:
The journal of physical chemistry. C, Nanomaterials and interfaces [J Phys Chem C Nanomater Interfaces] 2022 Mar 17; Vol. 126 (10), pp. 4845-4853. Date of Electronic Publication: 2022 Mar 08.
Autor:
Xu W; Department of Chemical and Biological Engineering, Colorado School of Mines, Golden, Colorado 80401, United States., Haeve MGN; Department of Applied Physics, Eindhoven University of Technology, Eindhoven 5600MB, The Netherlands., Lemaire PC; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, United States., Sharma K; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, United States., Hausmann DM; Lam Research Corporation, 11155 SW Leveton Drive, Tualatin, Oregon 97062, United States., Agarwal S; Department of Chemical and Biological Engineering, Colorado School of Mines, Golden, Colorado 80401, United States.
Publikováno v:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids [Langmuir] 2022 Jan 18; Vol. 38 (2), pp. 652-660. Date of Electronic Publication: 2022 Jan 06.
Autor:
Liu TL; Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, 496 Lomita Mall, Stanford, California 94305, United States., Zeng L; Department of Chemical Engineering, Stanford University, 443 Via Ortega, Stanford, California 94305, United States., Nardi KL; Lam Research Corporation, 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94538, United States., Hausmann DM; Lam Research Corporation, 4650 Cushing Parkway, Fremont, California 94538, United States., Bent SF; Department of Materials Science and Engineering, Stanford University, 496 Lomita Mall, Stanford, California 94305, United States.; Department of Chemical Engineering, Stanford University, 443 Via Ortega, Stanford, California 94305, United States.
Publikováno v:
Langmuir : the ACS journal of surfaces and colloids [Langmuir] 2021 Oct 05; Vol. 37 (39), pp. 11637-11645. Date of Electronic Publication: 2021 Sep 22.
Autor:
Liu TL, Nardi KL; Lam Research Corporation, Fremont, California 94538, United States., Draeger N; Lam Research Corporation, Fremont, California 94538, United States., Hausmann DM; Lam Research Corporation, Fremont, California 94538, United States., Bent SF
Publikováno v:
ACS applied materials & interfaces [ACS Appl Mater Interfaces] 2020 Sep 16; Vol. 12 (37), pp. 42226-42235. Date of Electronic Publication: 2020 Aug 31.