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Autor:
Max C. Schürmann, Peter Zink, Günther Derra, Erik Wagenaars, Marc Corthout, Hans Scheuermann, Guido Schriever, Jeroen Jonkers, Rolf Apetz, Guido Seimons, Marcel Damen, Peiter van de Wel, Rob Snijkers, Jesko Dr. Brudermann, Jürgen Klein, Masaki Yoshioka, Willi Neff, Oliver Franken, Oliver Zitzen, Dominik Marcel Vaudrevange, Felix Küpper, Arnaud Mader
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
For industrial EUV (extreme ultra-violet) lithography applications high power extreme ultraviolet (EUV) light sources are needed at a central wavelength of 13.5 nm, targeting 32 nm node and below. Philips Extreme UV GmbH and XTREME technologies GmbH
Autor:
Arnaud Mader, Adam Brunton, Klaus Bergmann, Giorgio Pirovano, Giovanni Bianucci, Hans Scheuermann, Peter Zink, Gian Luca Cassol, Fabio Zocchi, Oliver Franken
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The paper presents the results of an investigation into the thermal and optical characteristics of alpha-type dual-mirror grazing incidence collectors for Extreme Ultra-violet Lithography integrated into a tin-fueled discharge produced plasma source.
Publikováno v:
Fresenius' Zeitschrift für analytische Chemie. 78:341-349
1. Der Gehalt an Kohlendioxyd, Stickstoff, Sauerstoff, Edelgasen in Flaschenkohlensaure wird auf 1/2 v. T. genau bestimmbar gemacht. 2. Der Gehalt an Sauerstoff, Stickstoff, Edelgasen in Flaschensauerstoff ist auf dieselbe Genauigkeit bestimmbar. lys