Zobrazeno 1 - 10
of 93
pro vyhledávání: '"Hahn, Herwig"'
Autor:
Cardinael, Pieter, Yadav, Sachin, Hahn, Herwig, Zhao, Ming, Banerjee, Sourish, Esfeh, Babak Kazemi, Mauder, Christof, Sullivan, Barry O, Peralagu, Uthayasankaran, Vohra, Anurag, Langer, Robert, Collaert, Nadine, Parvais, Bertrand, Raskin, Jean-Pierre
Fabrication of low-RF loss GaN-on-Si HEMT stacks is critical to enable competitive front-end-modules for 5G and 6G applications. The main contribution to RF losses is the interface between the III-N layer and the HR Si wafer, more specifically the Al
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2404.02707
Autor:
You, Shuzhen, Geens, Karen, Borga, Matteo, Liang, Hu, Hahn, Herwig, Fahle, Dirk, Heuken, Michael, Mukherjee, Kalparupa, De Santi, Carlo, Meneghini, Matteo, Zanoni, Enrico, Berg, Martin, Ramvall, Peter, Kumar, Ashutosh, Björk, Mikael T., Ohlsson, B. Jonas, Decoutere, Stefaan
This paper reviews recent progress and key challenges in process and reliability for high-performance vertical GaN transistors and diodes, focusing on the 200 mm CMOS-compatible technology. We particularly demonstrated the potential of using 200 mm d
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2107.02469
Autor:
Schneider, Katharina, Baumgartner, Yannick, Hönl, Simon, Welter, Pol, Hahn, Herwig, Wilson, Dalziel J., Czornomaz, Lukas, Seidler, Paul
Gallium phosphide offers an attractive combination of a high refractive index ($n>3$ for vacuum wavelengths up to 4 {\mu}m) and a wide electronic bandgap (2.26 eV), enabling optical cavities with small mode volumes and low two-photon absorption at te
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1812.00631
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
J. Phys. D: Appl. Phys. 51 (2018) 185203
We present an inductively coupled-plasma reactive-ion etching process that simultaneously provides both a high etch rate and unprecedented selectivity for gallium phosphide (GaP) in the presence of aluminum gallium phosphide (Al$_\textrm{x}$Ga$_{1-\t
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1801.06469
Autor:
Schneider, Katharina, Welter, Pol, Baumgartner, Yannick, Hahn, Herwig, Czornomaz, Lukas, Seidler, Paul
Publikováno v:
Journal of Lightwave Technology ( Volume: 36, Issue: 14, July15, 15 2018 )
The development of integrated photonic circuits utilizing gallium phosphide requires a robust, scalable process for fabrication of GaP-on-insulator devices. Here we present the first GaP photonic devices on SiO$_2$. The process exploits direct wafer
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1801.02573
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.