Zobrazeno 1 - 3
of 3
pro vyhledávání: '"H. Ushikawa"'
Autor:
A. Kakimoto, K. Barla, J.P. Reynard, C. Chaneliere, Jean-Luc Autran, K. Shimomura, H. Ushikawa, J. Michailos, A. Hiroe
Publikováno v:
MRS Proceedings. 592
Ultra-thin tantalum pentoxide (Ta2O5) layers of thicknesses ranging from 6 to 10 nm were deposited by low pressure chemical vapor deposition from Ta(OC2 H5)5 on rapid thermal nitrided silicon substrates. Films were annealed in UV-O3 at 450°C, in dry
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::29dd0646b08da1de38f3ff2b9cfd2b3c
https://doi.org/10.1557/proc-592-75
https://doi.org/10.1557/proc-592-75
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.