Zobrazeno 1 - 10
of 51
pro vyhledávání: '"H. Kakati"'
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
S.A. Barve, M. Pandey, Jagannath, A. Choudhury, Arup R. Pal, Joyanti Chutia, H. Kakati, Dinkar S. Patil, N. Mithal, Ravada Kishore
Publikováno v:
Thin Solid Films. 519:7864-7870
Radiofrequency (13.56 MHz) plasma enhanced chemical vapor deposition process is used for deposition of SiO x films on bell metal substrates using Ar/hexamethyldisiloxane/O 2 glow discharge. The DC self-bias voltage developed on the substrates is obse
Autor:
M. Pandey, N. Mithal, Ravada Kishore, Arup R. Pal, A. Choudhury, Dinkar S. Patil, Joyanti Chutia, Jagannath, S.A. Barve, H. Kakati
Publikováno v:
Progress in Organic Coatings. 70:75-82
Styrene-based plasma polymer (SPP) films having thickness in the range of 900–1800 nm are deposited from radiofrequency (RF) Ar/styrene glow discharge. Depositions of the SPP films are carried out at working pressure of 1.2 × 10 −1 mbar and in t
Autor:
A. Choudhury, Neelotpal Sen Sarma, Dinkar S. Patil, H. Kakati, Devasish Chowdhury, Arup R. Pal, S.A. Barve, Joyanti Chutia
Publikováno v:
Vacuum. 84:1327-1333
Hexamethyldisiloxane (HMDSO) films (thickness: 282–929 nm) are prepared by the radiofrequency plasma assisted chemical vapour deposition (RF-PACVD) method using an Ar/HMDSO/O 2 gas mixture. The deposition process is carried out in an RF reactor at
Publikováno v:
Applied Surface Science. 255:7403-7407
Aluminium oxide films deposited by rf magnetron sputtering for protective coatings have been investigated. The alumina films are found to exhibit grainy surface microstructure. The grain size, structure and density depend on different system paramete
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics. 40:6865-6872
Electron drift velocity caused by E × B motion is measured with the help of a Mach probe in a rf planar magnetron sputtering discharge at different powers of 25, 50 and 75 W. Radial variation of the drift velocity is observed at all the powers with
Publikováno v:
Physics of Plasmas. 7:4878-4881
Autor:
K. S. Goswami, H. Kakati
Publikováno v:
Physics of Plasmas. 7:808-813
A theoretical model is presented to investigate the double layers, associated with the kinetic Alfven waves, in a magnetized electron–positron–ion plasma with a small but finite value of β, and small-amplitude double layer solutions are obtained