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pro vyhledávání: '"H. Buehler"'
Autor:
Sam T. Reed, Steven H. Buehler
Publikováno v:
2021 IEEE IAS Petroleum and Chemical Industry Technical Conference (PCIC).
Publikováno v:
Journal of Sedimentary Research. 81:630-640
Avulsion processes have been observed and analyzed using field based studies, however, they have rarely been analyzed through use of satellite imagery even though such an approach allows documentation of spatial and temporal variations of the resulti
Autor:
Louis A. Scuderi, Gary S. Weissmann, R. Banteah, Adrian J. Hartley, M. Olson, H. Buehler, Gary Nichols
Publikováno v:
Geology. 38:39-42
Analysis of more than 700 modern continental sedimentary basins that are both endorheic (internally drained) and exorheic (externally drained) and cover a wide range of climatic and tectonic settings shows that sedimentation is dominated by distribut
Autor:
A. Lechner, M. Schrödl, R. Weiß, E. Brenner, P. Seifter, W. Kosta, G. Raimann, F. Furtner, D. Kirchner, H. Bühler, B. Nemsic, W. Jerono, G. Horak, R. Messaros, F. Seifert, P. Fey, A. Goßlau, A. Gottwald, W. Gáspár-Ruppert, P. Kreuzgruber, A. L. Scholtz, W. Smutny, P. Koschnick, W. Schulz, R. Schwarze, Peter W. Fröhling, Robert Casari, E. Fugger, P. Spinadel, J. Niwinski, L. Prager, E. Schauer, G. Rigler, K. Moshammer, H. Arnold, W. Pribyl, R. Röhrer, W. A. Halang, K. Barbier, F. Schiestl, C. Blind, H. Kamper, A. Krenn, H. Fleischmann, R. Schlager, L. Sturm, J. Retti, S. Rohringer, H. Schreiner, G. Fleischanderl, W. Höllinger, R. Fasching, G. Stonawski, H. Huber, J. Jaeger, H. Stadlbauer, R. Weissgärber, W. Reczek, H. Terletzki, Titu I. Bajenescu, T. Grechenig, Ch. Heinze, P. Purgathofer, J. Kohl, E. Schoitsch, G. Stöckler, F. Immitzer, W. Kasatschinskij, R. Eier, R. Neumann, F. Buschbeck, E. Riedl-Bratengeyer, D. Hornbachner, G. Güttler, C. Schmitzer, W. Klösch, A. Nedelik, E. Schöberl, W. Tritremmel, E. Schmidt, M. Gröschl, E. Benes, H. Siegmund, G. Thorn, G. F. Nowa
Die Informationstagung'Mikroelektronik'findet im Rahmen der ie (Internationale Fachmesse für industrielle Elektronik) seit dem Jahr 1975 im Abstand von zwei Jahren statt. Die Einzelbeiträge der Tagung 1989 werden in dem vorliegenden Band in übersi