Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"H. Biebuyck"'
Publikováno v:
Sensors and Actuators A: Physical. 70:191-194
We describe a new O-ring setup for wet-etching processes of microelectromechanical systems (MEMS) . Our new low-cost approach using siloxane-based seal rings entails the single-side etching of silicon and silicon dioxide using potassium hydroxide and
Publikováno v:
Journal of the American Chemical Society. 119:3017-3026
Self-assembled monolayers (SAMs) on Au(111) formed by microcontact printing of dodecanethiol and investigated by scanning tunneling microscopy and wettability measurements have, under certain conditions, characteristics indistinguishable from SAMs fo
Autor:
Hans Sigrist, B. Michel, Emmanuel Delamarche, H. Biebuyck, Heiko Wolf, H. Ringsdorf, N. Xanthopoulos, Ch. Gerber, H. J. Mathieu, Gajendran Sundarababu
Publikováno v:
Langmuir. 12:1997-2006
This paper presents a strategy for immobilizing biomolecules on a photoactivable surface. A self-assembled monolayer is prepared by adsorbing an ω-functionalized dialkyl disulfide on gold. Functional groups of this monolayer are converted in two ste
Publikováno v:
Journal of Electron Spectroscopy and Related Phenomena. 58:141-158
Organic films of alkanethiols, CH 3 (CH 2 ) n -1 SH ( n = 2, 6, 8, 11, 16, 18, 22), adsorbed from solution onto gold surfaces are investigated by quantitative XPS. Application of a recent formalism based on inelastic background analysis (the Tougaard
Autor:
J. R. Barnes, Mark E. Welland, A. C. F. Hoole, Bruno Michel, M. B. Johnson, H. Biebuyck, J.P. Bourgoin, M. P. Murrell, Alec N. Broers
Publikováno v:
Applied Physics Letters. 67:1538-1540
We used local probe techniques to characterize electron beam (e‐beam) induced changes in thin oxides on silicon. Primary effects of the 1 nm wide, 300 keV e beam included the formation of positive charges trapped in the SiO2, physical restructuring
Publikováno v:
Proceedings of International Solid State Sensors and Actuators Conference (Transducers '97).
We describe a new O-ring setup for wet etching processes. The low-cost approach using siloxane-based sealing rings has been successful for the single-sided etching of silicon and silicon dioxide using a reduced volume of KOH and BHF, respectively. Wi
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.