Zobrazeno 1 - 10 of 25 pro vyhledávání: '"H. Basher"'
1
Akademický článek
DETERMINING THE MOST SUITABLE GROWING MEDIUM AND IRRIGATION WATER AMOUNT NEEDED FOR THE PRODUCTION OF SOME FOLIAGE ORNAMENTAL PLANTS
Autor: H. Basher, Z.B. Mohamed, S. Shahin
Publikováno v: Scientific Journal of Flowers and Ornamental Plants, Vol 10, Iss 1, Pp 43-62 (2023)
Two separate factorial experiments arranged in a completely randomized design replicated thrice were conducted in a plastic house at the Tropical Farm of Kom Ombo district, Aswan Governorate, during 2021 and 2022 seasons to study the effect of growin
Externí odkaz: https://doaj.org/article/b9960e2b2bae48b5a8d6ee0a3115adae
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Susceptibility of Staphylococcus epidermidis to Argon Cold Plasma Jet by Oxygen Admixture
Autor: Abdel-Aleam H. Mohamed, Abdulrahman H. Basher, Jamal Q. M. Almarashi, Salama A. Ouf
Publikováno v: Applied Sciences, Vol 11, Iss 8, p 3455 (2021)
Cold atmospheric pressure sterilization is one of the nominated and efficient techniques to prevent the spread of diseases. Reactive species such as O and OH and other radicals play a major role in the mechanism of plasma sterilization. Therefore, in
Externí odkaz: https://doaj.org/article/c09d5f80df8b41f896aeab4eea8c9d25
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Susceptibility of Staphylococcus epidermidis to Argon Cold Plasma Jet by Oxygen Admixture
Autor: Jamal Q. M. Almarashi, Salama A. Ouf, Abdulrahman H. Basher, Abdel-Aleam H. Mohamed
Publikováno v: Applied Sciences, Vol 11, Iss 3455, p 3455 (2021)
Applied Sciences
Volume 11
Issue 8
Cold atmospheric pressure sterilization is one of the nominated and efficient techniques to prevent the spread of diseases. Reactive species such as O and OH and other radicals play a major role in the mechanism of plasma sterilization. Therefore, in
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::bbb92ea83882b2ab36be688c5174dd6f
https://www.mdpi.com/2076-3417/11/8/3455
Zobrazit plný text záznamu
5
Formation and desorption of nickel hexafluoroacetylacetonate Ni(hfac)$_{2}$ on a nickel oxide surface in atomic layer etching processes
Autor: Karin Fink, Marjan Krstić, Satoshi Hamaguchi, Abdulrahman H. Basher, Tomoko Ito, Wolfgang Wenzel, Kazuhiro Karahashi
Publikováno v: Journal of vacuum science & technology / A, 38 (5), Art.Nr. 052602
Abdulrahman H. Basher, Marjan Krstić, Takae Takeuchi, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Masato Kiuchi, Kazuhiro Karahashi1, Wolfgang Wenzel, and Satoshi Hamaguchi, Journal of Vacuum Science & Technology A 38:2, (2020); licensed under a Creative Commons Att
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::f2a68ee179893ac2431dbf9d9a42726a
Zobrazit plný text záznamu
6
Stability of hexafluoroacetylacetone molecules on metallic and oxidized nickel surfaces in atomic-layer-etching processes
Autor: Abdulrahman H. Basher, Wolfgang Wenzel, Tomoko Ito, Kazuhiro Karahashi, Satoshi Hamaguchi, Michiro Isobe, Masato Kiuchi, Marjan Krstić, Takae Takeuchi
Publikováno v: Journal of vacuum science & technology / A, 38 (2), Article: 022610
Abdulrahman H. Basher, Marjan Krstić, Takae Takeuchi, Michiro Isobe, Tomoko Ito, Masato Kiuchi, Kazuhiro Karahashi, Wolfgang Wenzel, and Satoshi Hamaguchi, Journal of Vacuum Science & Technology A 38:2, (2020); licensed under a Creative Commons Attr
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ecd63b8959415a57e0d6dbb6513ade9a
https://publikationen.bibliothek.kit.edu/1000118018
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
10
Self-limiting processes in thermal atomic layer etching of nickel by hexafluoroacetylacetone
Autor: Abdulrahman H. Basher, Satoshi Hamaguchi, Ikutaro Hamada
Publikováno v: Japanese Journal of Applied Physics. 59(9):090905
Abdulrahman H. Basher, Ikutaro Hamada, and Satoshi Hamaguchi. Jpn. J. Appl. Phys. 59 090905.
In thermal atomic layer etching (ALE) of Ni, a thin oxidized Ni layer is removed by a hexafluoroacetylacetone (hfacH) etchant gas at an elevated surface
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2d4e5fafb416a207f7eece4fd9e87817
https://hdl.handle.net/11094/78455
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje