Zobrazeno 1 - 10
of 65
pro vyhledávání: '"Hösler, W."'
Pt/Ti metallisation bilayers are used as bottom electrodes for ferroelectric thin films. During deposition of the ferroelectric films, these electrodes are exposed to elevated temperatures causing modifications of the Pt/Ti bottom electrode. Diffusio
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/1502.03413
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 2004 264(1):123-127
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 6/15/2003, Vol. 93 Issue 12, p9591, 6p, 3 Black and White Photographs, 2 Graphs
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Schuster, M, Gervais, P O, Jobst, B, Hösler, W, Averbeck, R, Riechert, H, Iberl, A, Stömmer, R
Publikováno v:
Journal of Physics D: Applied Physics; 5/21/1999, Vol. 32 Issue 10, pA56-A60, 5p
Publikováno v:
Fresenius' Journal of Analytical Chemistry; 1991, Vol. 341 Issue 1/2, p43-48, 6p
Autor:
Hösler, W., Pamler, W.
Publikováno v:
Surface & Interface Analysis: SIA; 1993, Vol. 20 Issue 8, p609-620, 12p
Publikováno v:
Surface & Interface Analysis: SIA; 1993, Vol. 20 Issue 6, p519-523, 5p