Zobrazeno 1 - 10
of 10
pro vyhledávání: '"Gy. Nadudvari"'
Autor:
Zs. Zolnai, Janos Szivos, J. Byrnes, O. Sepsi, F. Ujhelyi, Leonard M. Rubin, a. Kun, Anita Pongracz, Edward D. Moore, Gy. Nadudvari
Publikováno v:
2020 31st Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).
Photo-modulated reflectance measurements provide a powerful, non-contact, non-destructive and inline-compatible method with low-cost operation for statistical process control of ion implantation steps on monitor and on product wafers. We present case
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::8b20eddc35e68b1b5f1cad8c9bf83c97
https://doi.org/10.1109/asmc49169.2020.9185326
https://doi.org/10.1109/asmc49169.2020.9185326
Autor:
Janos Szivos, a. Kun, Leonard M. Rubin, B. Bartal, A. Bolcskei-Molnar, Anita Pongracz, Bálint Fodor, J. Byrnes, Gy. Nadudvari, F. Ujhelyi
Publikováno v:
2019 30th Annual SEMI Advanced Semiconductor Manufacturing Conference (ASMC).
Photo-modulated Reflectivity Measurement (PMR) is an excellent technology for ion implantation dose and tilt angle monitoring of as-implanted pre-annealed production wafers. The SEMILAB PMR-3000 is a unit for in-line monitoring of ion implantation pr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::5ce592b4bb109cf1683b4a95fab87d3f
https://doi.org/10.1109/asmc.2019.8791776
https://doi.org/10.1109/asmc.2019.8791776
Autor:
M. Tallian, A. Pap, K. Mocsar, A. Somogyi, Gy. Nadudvari, D. Kosztka, T. Pavelka, Jiro Matsuo, Masataka Kase, Takaaki Aoki, Toshio Seki
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
State‐of‐the‐art ultra‐shallow junctions are produced using extremely low ion implant energies, down to the range of 1–3 keV. This can be achieved by a variety of production techniques; however there is a significant risk that the actual im
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::3c48d649952a2c9e043b1aec45fef59d
https://doi.org/10.1063/1.3548444
https://doi.org/10.1063/1.3548444
Autor:
M. Tallian, A. Pap, K. Mocsar, A. Somogyi, Gy. Nadudvari, D. Kosztka, T. Pavelka, Jiro Matsuo, Masataka Kase, Takaaki Aoki, Toshio Seki
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings.
Ultra shallow junctions are becoming widely used in the micro‐ and nanoelectronic devices, and novel measurement methods are needed to monitor the manufacturing processes. Photomodulated Reflection measurements before anneal and Junction Photovolta
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::58ee0f7f607000cc4950c564683196ec
https://doi.org/10.1063/1.3548443
https://doi.org/10.1063/1.3548443
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 1/7/2011, Vol. 1321 Issue 1, p440-443, 4p
Publikováno v:
AIP Conference Proceedings; 1/7/2011, Vol. 1321 Issue 1, p436-439, 4p
Autor:
Hartmann, Peter
For more than 400 years, optical glass has provided mankind with a window into both the hidden microcosm and vast outer cosmos of the known universe, transforming philosophy, science, and engineering through its visage and, thus, shaping modern civil
