Knihovna AV ČR, v. v. i.
  • Odhlásit
  • Přihlášení
  • Jazyk
    • English
    • Čeština
  • Instituce
    • Knihovna AV ČR
    • Souborný katalog AV ČR
    • Archeologický ústav Brno
    • Archeologický ústav Praha
    • Astronomický ústav
    • Biofyzikální ústav
    • Botanický ústav
    • Etnologický ústav
    • Filosofický ústav
    • Fyzikální ústav
    • Fyziologický ústav
    • Geofyzikální ústav
    • Geologický ústav
    • Historický ústav
    • Masarykův ústav
    • Matematický ústav
    • Orientální ústav
    • Psychologický ústav
    • Slovanský ústav
    • Sociologický ústav
    • Ústav analytické chemie
    • Ústav anorganické chemie
    • Ústav pro českou literaturu
    • Ústav dějin umění
    • Ústav fyziky atmosféry
    • Ústav fotoniky a elektroniky
    • Ústav fyzikální chemie J. H.
    • Ústav fyziky materiálů
    • Ústav geoniky
    • Ústav pro hydrodynamiku
    • Ústav chemických procesů
    • Ústav informatiky
    • Ústav pro jazyk český
    • Ústav jaderné fyziky
    • Ústav makromolekulární chemie
    • Ústav pro soudobé dějiny
    • Ústav přístrojové techniky
    • Ústav státu a práva
    • Ústav struktury a mechaniky hornin
    • Ústav teoretické a aplikované mechaniky
    • Ústav teorie informace a automatizace
    • Ústav výzkumu globální změny
Pokročilé vyhledávání
  • Domovská stránka
  • Vyhledávání: "Gushchin, O. P."
  • Navrhnout nákup titulu
Zobrazeno 1 - 10 of 10 pro vyhledávání: '"Gushchin, O. P."'
1
Akademický článek
Modeling the Dynamics of the Integral Dielectric Permittivity of a Porous Low-K Organosilicate Film during the Dry Etching of a Photoresist in O2 Plasma.
Autor: Rezvanov, A. A., Matyushkin, I. V., Gushchin, O. P., Gornev, E. S.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Nov2018, Vol. 47 Issue 6, p415-426, 12p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Atomic Layer Deposition in the Production of a Gate HkMG Stack Structure with a Minimum Topological Size of 32 nm.
Autor: Rudenko, K. V., Myakon'kikh, A. V., Rogozhin, A. E., Gushchin, O. P., Gvozdev, V. A.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Jan2018, Vol. 47 Issue 1, p1-10, 10p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
6
Periodical
Spectroscopic study of chemical composition of high-frequency glow-discharge in halogen-containing gas mixtures
Autor: Gushchin, O. P., Dolgopolov, V. M., Pereverzev, L. E., Slovetskii, D. I.
Publikováno v: Journal of Applied Spectroscopy; September 1985, Vol. 43 Issue: 3 p971-975, 5p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
8
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
9
Akademický článek
Investigation of the Process of Plasma Through Etching of HkMG Stack of Nanotransistor with a 32-nm Critical Dimension.
Autor: Myakonkikh, A. V., Kuvaev, K. Yu., Tatarintsev, A. A., Orlikovskii, N. A., Rudenko, K. V., Guschin, O. P., Gornev, E. S.
Publikováno v: Russian Microelectronics; Sep2018, Vol. 47 Issue 5, p323-331, 9p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Plasma Enhanced Atomic Layer Deposition of Ruthenium Films Using Ru(EtCp) 2 Precursor.
Autor: Rogozhin, Alexander, Miakonkikh, Andrey, Smirnova, Elizaveta, Lomov, Andrey, Simakin, Sergey, Rudenko, Konstantin
Publikováno v: Coatings (2079-6412); Feb2021, Vol. 11 Issue 2, p117-117, 1p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

  • RSS
  • Poslat e-mailem

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje
Pouze tištěné dokumenty
Zahrnout EIZ
  • 10 Akademické články
  • 1 Časopisy
  • 1 Konferenční materiály
  • 4 dielectrics
  • 3 atomic layer deposition
  • 3 plasma etching
  • 2 permittivity
  • 2 transistors
  • 2 water pressure
  • 1 atomic force microscopy
  • 1 barc
  • 1 calorimeters
  • 1 cherenkov detectors
  • 1 co
  • 1 contact
  • 1 detector alignment and calibration methods
  • 1 detector cooling and thermo-stabilization
  • 1 detector design and construction technologies and materials
  • 1 dry etch
  • 1 electromagnetic calorimeter
  • 1 front-end electronics
  • 1 gaseous detectors
  • 1 large detector systems for particle and astroparticle physics
  • 1 lithography
  • 1 muon system
  • 1 operation
  • 1 particle identification methods
  • 1 particle tracking detectors
  • 1 peald
  • 1 photon detectors
  • 1 read-out
  • 1 rich detectors
  • 1 ruthenium
  • 1 ruthenium oxide
  • 1 secondary ion mass spectrometry
  • 1 strains & stresses (mechanics)
  • 1 vacuum breakdown
  • 5 springer nature
  • 2 maik nauka/interperiodica/springer
  • 1 iop publishing ltd
  • 1 mdpi
  • 5 russian microelectronics
  • 2 journal of instrumentation
  • 1 coatings (2079-6412)
  • 1 instruments and experimental techniques
  • 1 journal of applied spectroscopy
  • 1 journal of surface investigation-x-ray synchrotron and neutron techniques
  • 1 proceedings of spie - the international society for optical engineering
  • 4 Complementary Index
  • 3 Science Citation Index Expanded
  • 2 Scopus®
  • 2 Academic Search Ultimate
  • 1 Supplemental Index

Možnosti vyhledávání

  • Tematická mapa
  • Historie vyhledávání
  • Pokročilé vyhledávání

Objevte více

  • Abecední procházení

Hledáte pomoc?

  • Tipy pro vyhledávání
načítá se......