Zobrazeno 1 - 10
of 146
pro vyhledávání: '"Grayscale lithography"'
Autor:
Gordon Zyla, Göran Maconi, Anton Nolvi, Jan Marx, Dimitra Ladika, Ari Salmi, Vasileia Melissinaki, Ivan Kassamakov, Maria Farsari
Publikováno v:
Light: Advanced Manufacturing, Vol 5, Pp 1-14 (2024)
Although optical microscopy is a widely used technique across various multidisciplinary fields for inspecting small-scale objects, surfaces or organisms, it faces a significant limitation: the lateral resolution of optical microscopes is fundamentall
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/e13597157e264eebaf360cd571b44f8b
Publikováno v:
Light: Advanced Manufacturing, Vol 5, Iss 1, Pp 1-12 (2024)
Achieving a high sensitivity for practical applications has always been one of the main developmental directions for wearable flexible pressure sensors. This paper introduces a laser speckle grayscale lithography system and a novel method for fabrica
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/008b0c93893d438e90f37bef2f13c110
Autor:
Joao Cunha, Inês S. Garcia, Joana D. Santos, José Fernandes, Pedro González-Losada, Carlos Silva, João Gaspar, Ana Cortez, Marcos Sampaio, Diogo E. Aguiam
Publikováno v:
Micro and Nano Engineering, Vol 19, Iss , Pp 100182- (2023)
Direct Write Laser (DWL) Grayscale (GS) lithography has gathered attention as a versatile technological solution to fabricate arbitrary and complex 2.5D structures in photoresist (PR). In combination with Reactive Ion Etching (RIE), DWL GS can enable
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/7372a300dc254bf681b3c115a7db2de7
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
I. V. Timoshkov, A. V. Khanko, V. I. Kurmashev, D. V. Grapov, A. A. Kastevich, G. A. Govor, A. K. Vetcher
Publikováno v:
Doklady Belorusskogo gosudarstvennogo universiteta informatiki i radioèlektroniki, Vol 0, Iss 7 (125), Pp 81-87 (2019)
In the article MEMS technologies for display production and application presented. UV-LIGA and greyscale lithography based on SU-8 resist approaches were shown. Methods, technologies and structures of heterogeneous materials with soft magnetic proper
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/ae7211b05b4846f68066f158d9e32ee6
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Intan Sue Liana Abdul Hamid, Beh Khi Khim, Mohammad Faiz Mohamed Omar, Khairu Anuar Mohamad Zain, Nuha Abd Rhaffor, Sofiyah Sal Hamid, Asrulnizam Abd Manaf
Publikováno v:
Micromachines, Vol 13, Iss 1, p 78 (2022)
In this present work, we aim to improve the hydrophobicity of a polydimethylsiloxane (PDMS) surface. Various heights of 3D PDMS micropillars were fabricated via grayscale photolithography, and improved wettability was investigated. Two approaches of
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/c1a1022c921a491b805fc93035433ff3