Zobrazeno 1 - 10
of 23
pro vyhledávání: '"Gondek, C."'
32nd European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition; 901-903
The Texturization of crystalline silicon wafers by wet-chemical treatment is commonly used for the enhancement of light absorption in solar cells. Recent studies of aniso
The Texturization of crystalline silicon wafers by wet-chemical treatment is commonly used for the enhancement of light absorption in solar cells. Recent studies of aniso
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::1fa470265db638e6c01d5c9979ca2e97
28th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition; 1778-1781
In the present study, HF-O3-H2O- mixtures for etching and cleaning solar-grade (sg) silicon were investigated. The reactivity towards (100) silicon was determined and d
In the present study, HF-O3-H2O- mixtures for etching and cleaning solar-grade (sg) silicon were investigated. The reactivity towards (100) silicon was determined and d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::15619233fcef039c5cdb1dce70d0922d
27th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition; 1877-1880
The influence of the addition of sulfuric acid to the frequently-used HF-HNO3-H2O etching mixtures has been studied. Nitrogen-oxygen cations, which are supposed to be c
The influence of the addition of sulfuric acid to the frequently-used HF-HNO3-H2O etching mixtures has been studied. Nitrogen-oxygen cations, which are supposed to be c
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::f634cc1b2fab7dd2ba191d02cf981b84
27th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition; 1109-1112
In the present study, the HF-H2O2-H2O system for etching crystalline silicon is investigated in terms of cleaning qualities. The reactivity towards (100) silicon is dis
In the present study, the HF-H2O2-H2O system for etching crystalline silicon is investigated in terms of cleaning qualities. The reactivity towards (100) silicon is dis
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::cbfe234f704a56ab032b581621a6ff56
26th European Photovoltaic Solar Energy Conference and Exhibition; 3818-3821
In the present study, the nitric acid-free etching system HF-H2O2-H2O is investigated. The reactivity towards multicrystalline silicon is discussed over a wide concentr
In the present study, the nitric acid-free etching system HF-H2O2-H2O is investigated. The reactivity towards multicrystalline silicon is discussed over a wide concentr
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::9b71f35bfbd4ded502b0a4ad5060fdd4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.