Zobrazeno 1 - 10
of 105
pro vyhledávání: '"Gobil, Y"'
Autor:
Kim, Donghyun, Theodorou, C., Chanuel, A., Gobil, Y., Charles, M., Morvan, E., Woo Lee, Jae, Mouis, M., Ghibaudo, G.
Publikováno v:
In Solid State Electronics November 2022 197
Autor:
Aliane, A., Agnese, P., Pigot, C., Sauvageot, J.-L., de Moro, F., Ribot, H., Gasse, A., Szeflinski, V., Gobil, Y.
Publikováno v:
In Nuclear Inst. and Methods in Physics Research, A 2008 594(2):210-214
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2002 60(1):119-124
Publikováno v:
In Microelectronic Engineering 2000 50(1):369-374
Publikováno v:
In Microelectronics Reliability 2000 40(1):77-86
Autor:
Ligeon, E., Chami, C., Danielou, R., Feuillet, G., Fontenille, J., Saminadayar, K., Ponchet, A., Cibert, J., Gobil, Y., Tatarenko, S.
Publikováno v:
Journal of Applied Physics; 3/1/1990, Vol. 67 Issue 5, p2428, 6p, 9 Diagrams
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Robic, J.Y, Besson, P., Gobil, Y., Heitzmann, M., Quesnel, E., Hue, J., Muffato, V., Renaud, D., Schiavone, P.
Publikováno v:
2nd International EUV Lithography Workshop
2nd International EUV Lithography Workshop, 2000, San Francisco, United States
2nd International EUV Lithography Workshop, 2000, San Francisco, United States
International audience
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::071deb91ada97f586eb75f1230102298
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00494562
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-00494562
