Zobrazeno 1 - 10
of 135
pro vyhledávání: '"Gity, F."'
Autor:
Vatalaro, M., Neill, H., Gity, F., Magnone, P., Maccaronio, V., Márquez, C., Galdon, J. C., Gamiz, F., Crupi, F., Hurley, P., De Rose, R.
Publikováno v:
Solid-State Electronics 2023
This work investigates the variability of tungsten disulfide (WS$_2$)-based devices by experimental characterization in view of possible application in the field of hardware security. To this aim, a preliminary analysis was performed by measurements
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2308.02265
Autor:
Coleman, E., Mirabelli, G., Bolshakov, P., Zhao, P., Caruso, E., Gity, F., Monaghan, S., Cherkaoui, K., Balestra, V., Wallace, R.M., Young, C.D., Duffy, R., Hurley, P.K.
Publikováno v:
In Solid State Electronics December 2021 186
Autor:
Caruso, E., Lin, J., Monaghan, S., Cherkaoui, K., Floyd, L., Gity, F., Palestri, P., Esseni, D., Selmi, L., Hurley, P.K.
Publikováno v:
In Solid State Electronics November 2021 185
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Gammon P.M., Chan C.W., Gity F., Trajkovic T., Kilchytska V., Fan L., Pathirana V., Camuso G., Ben Ali K., Flandre D., Mawby P.A., Gardner J.W.
Publikováno v:
E3S Web of Conferences, Vol 16, p 12003 (2017)
A new generation of power electronic semiconductor devices are being developed for the benefit of space and terrestrial harsh-environment applications. 200-600 V lateral transistors and diodes are being fabricated in a thin layer of silicon (Si) wafe
Externí odkaz:
https://doaj.org/article/0dd4f01de6134216a5eee2a56425504d
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.