Zobrazeno 1 - 2
of 2
pro vyhledávání: '"G.M. Ruan"'
Autor:
Tomi T. Li, L.C. Hu, Ta-Chin Wei, Cheng-Chung Lee, Yoshinobu Kawai, C.J. Wang, G.M. Ruan, Y.W. Lin
Publikováno v:
Thin Solid Films. 570:574-579
An electron cyclotron resonance chemical vapor deposition (ECR-CVD) system applied in a hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) thin-film deposition process was diagnosed in-situ by using optical emission spectroscopy (OES) and a Langmuir probe. The
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::2e759b774ce27e208479ae282a6e9c8b
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.05.063
https://doi.org/10.1016/j.tsf.2014.05.063
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.