Zobrazeno 1 - 10
of 25
pro vyhledávání: '"G.E. Crook"'
Publikováno v:
Ultramicroscopy. 49:273-285
We present a method which allows the direct measurement of local displacements within a crystal lattice by high-resolution electron microscopy (HREM). The basic idea of this method is the formation of moire structures when two two-dimensional lattice
Publikováno v:
Applied Surface Science. :650-655
We investigated the growth (molecular beam epitaxy) and the structural properties of ultrathin Si layers embedded in GaAs(100). Surface reconstructions were monitored by high-energy electron diffraction (RHEED) during growth. A (1 × 2) reconstructio
Publikováno v:
Journal of Crystal Growth. 111:184-188
Gallium arsenide layers were grown by molecular beam epitaxy on (100) Si substrates misoriented by 1.7° and 4° toward [011], with a thin Si buffer layer deposited before GaAs growth for some samples. Reflection high energy electron diffraction obse
Publikováno v:
IEEE Antennas and Propagation Society International Symposium 1997. Digest.
The planar inverted F antenna (PIFA) and the closely-related quarter-wave microstrip antenna are well-known, low-profile antenna designs which offer broad bandwidth and high radiation efficiency. These antennas offer reduced size over traditional mic
We examine the stability of pseudomorphic submonolayer Si films embedded in (001) GaAs by molecular-beam epitaxy. Secondary ion-mass spectrometry depth profiling reveals the presence of 10high19 Si- atoms/ccm in the first 40 nm of the GaAs cap layer.
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::2f18ecd46f3198f51673a65c4eadf7f6
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/180442
https://publica.fraunhofer.de/handle/publica/180442
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 10:841
Silicon layers with thicknesses covering the range from delta‐doping densities to relaxed Si have been embedded in GaAs using molecular‐beam epitaxy. The Si thickness for which the onset of relaxation of the Si layer occurred was found to be abou
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.