Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"G. Janaway"'
Autor:
Bart G. Scholte van Mast, C. N. Berglund, Jack M. Mccarthy, J. L. House, G. Janaway, Suresh W. Gosavi
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 19:2591
Multi-electron beam lithography has been proposed as a promising approach to achieve high throughput for mask writing and direct wafer writing. Laser driven photocathodes represent an attractive candidate for multiple beam, high brightness sources. T
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::57d873dff0f787f967a1ca3d05b05634
https://doi.org/10.1116/1.1418414
https://doi.org/10.1116/1.1418414
Publikováno v:
Journal of Vacuum Science & Technology B: Microelectronics and Nanometer Structures. 19:2581
A high-brightness photoemission source is being developed for use in a multiple-electron beam lithography system suitable for mask patterning. Cesium telluride (Cs2Te) photocathodes have achieved stable brightness of 2–3×106 A/cm2 Sr and current d
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::255389dcf92a80885edd489b9de20662
https://doi.org/10.1116/1.1420202
https://doi.org/10.1116/1.1420202
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.