Zobrazeno 1 - 4
of 4
pro vyhledávání: '"G. Bervin"'
Autor:
Frederic Boeuf, S. Manakli, A. Beverina, M. Broekaart, J. Todeschini, M. Jurdit, Daniel Henry, Francois Leverd, Stephane Denorme, Pascal Gouraud, Ph. Brun, V. Wang, G. Bervin, V. De Jonghe, Blandine Minghetti, Laurent Pain, B. Icard
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
With the strong increase of mask complexity and associated price for each new technology node, mask less lithography represents more and more an interesting and complementary alternative for ASIC manufacturing especially in the fields of low volume a
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::92f8cd125ad16269328f098b8fd0dbed
https://doi.org/10.1117/12.601498
https://doi.org/10.1117/12.601498
Autor:
M. Woo, R. Faure, X. Bossy, H. Leininger, Yves Laplanche, Franck Arnaud, J. Todeschini, A. Beverina, G. Bervin, B. Tavel, M. Jurdit, P. Stolk, Laurent Pain, R. Palla, S. Tourniol, M. Broekaart, K. Brosselin, Daniel Henry, S. Manakli, Veronique De Jonghe, F. Judong, Pascal Gouraud
Publikováno v:
SPIE Proceedings.
The introduction of Electron Beam Direct Write lithography into production represents a challenging alternative to reduce cost and cycle time increase induced by the introduction of new generation nodes. This paper details the development work perfor
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_________::631ee362386cf55158df9c4af98d4869
https://doi.org/10.1117/12.537188
https://doi.org/10.1117/12.537188
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.