Zobrazeno 1 - 10 of 10 pro vyhledávání: '"Fuller, N. C. M."'
1
Akademický článek
Effect of radical species density and ion bombardment during ashing of extreme ultralow-κ interlevel dielectric materials.
Autor: Worsley, M. A., Bent, S. F., Fuller, N. C. M., Tai, T. L., Doyle, J., Rothwell, M., Dalton, T.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 1/1/2007, Vol. 101 Issue 1, p013305-N.PAG, 11p, 1 Diagram, 1 Chart, 11 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Characterization of neutral species densities in dual frequency capacitively coupled photoresist ash plasmas by optical emission actinometry.
Autor: Worsley, M. A., Bent, S. F., Fuller, N. C. M., Dalton, T.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/15/2006, Vol. 100 Issue 8, p083301, 10p, 1 Chart, 10 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
Optical actinometry of Cl[sub 2], Cl, Cl[sup +], and Ar[sup +] densities in inductively coupled Cl[sub 2]–Ar plasmas.
Autor: Fuller, N. C. M., Herman, Irving P., Donnelly, Vincent M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 10/1/2001, Vol. 90 Issue 7, p3182, 10p, 2 Charts, 7 Graphs
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
5
Akademický článek
Electron temperatures of inductively coupled Cl2-Ar plasmas.
Autor: Fuller, N. C. M., Donnelly, Vincent M., Herman, Irving P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2002, Vol. 20 Issue 1, p170-173, 4p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Transient plasma-induced emission analysis of laser-desorbed species during Cl2 plasma etching of Si.
Autor: Choe, Jae Young, Fuller, N. C. M., Donnelly, Vincent M., Herman, Irving P.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 2000, Vol. 18 Issue 6, p2669-2679, 11p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Characterization of transformer coupled oxygen plasmas by trace rare gases-optical emission spectroscopy and Langmuir probe analysis.
Autor: Fuller, N C M, Malyshev, M V, Donnelly, V M, Herman, Irving P
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; 2000, Vol. 9 Issue 2, p116-127, 12p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Optical plasma emission spectroscopy of etching plasmas used in Si-based semiconductor processing.
Autor: Donnelly, V. M., Malyshev, M. V., Schabel, M., Kornblit, A., Tai, W., Herman, I. P., Fuller, N. C. M.
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; Aug2002, Vol. 11 Issue 3A, p1-1, 1p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje