Zobrazeno 1 - 10
of 207
pro vyhledávání: '"Fukin GK"'
Autor:
Scarel, G, Wiemer, C, Tallarida, G, Spiga, S, Seguini, G, Lebedinskii, Y, Zenkevich, A, Pavia, G, Fedushkin, IL, Fukin, GK, Domrachev, GA, BONERA, EMILIANO, FANCIULLI, MARCO
Publikováno v:
Journal of the Electrochemical Society 153 (2006): F271–F276. doi:10.1149/1.2347109
info:cnr-pdr/source/autori:Scarel, G; Wiemer, C; Tallarida, G; Spiga, S; Seguini, G; Bonera, E; Fanciulli, M; Lebedinskii, Y; Zenkevich, A; Pavia, G; Fedushkin, IL; Fukin, GK; Domrachev, GA/titolo:Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu/doi:10.1149%2F1.2347109/rivista:Journal of the Electrochemical Society/anno:2006/pagina_da:F271/pagina_a:F276/intervallo_pagine:F271–F276/volume:153
info:cnr-pdr/source/autori:Scarel, G; Wiemer, C; Tallarida, G; Spiga, S; Seguini, G; Bonera, E; Fanciulli, M; Lebedinskii, Y; Zenkevich, A; Pavia, G; Fedushkin, IL; Fukin, GK; Domrachev, GA/titolo:Atomic layer deposition of Lu silicate films using [(Me3Si)(2)N](3)Lu/doi:10.1149%2F1.2347109/rivista:Journal of the Electrochemical Society/anno:2006/pagina_da:F271/pagina_a:F276/intervallo_pagine:F271–F276/volume:153
Rare-earth silicates are promising materials for future microelectronic devices based on high dielectric constant dielectrics. In this work, we report the investigation of Lu silicate films deposited using atomic layer deposition on Si(100). The film
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::8a25a21c28714aed650d7b299f2ef2d0
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.