EB60: An advanced direct wafer exposure electron-beam lithography system for high-throughput, high-precision, submicron pattern writing.

Autor: Fujinami, Minpei, Shimazu, Nobuo, Hosokawa, Teruo, Shibayama, Akinori

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1987, Vol. 5 Issue 1, p61-65, 5p

High speed flat guide ceramic stage for electron-beam lithography system.

Autor: Tsuyuzaki, Haruo, Shimazu, Nobuo, Fujinami, Minpei

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1986, Vol. 4 Issue 1, p280-284, 5p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

A Solid State Electron Detector for the EB60 Electron Beam Lithography System

Autor: Murashita, Toru, Shibayama, Akinori, Fujinami, Minpei

Publikováno v: Japanese Journal of Applied Physics; September 1987, Vol. 26 Issue: 9 p1513-1513, 1p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.