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pro vyhledávání: '"Fluorescence induite par diode laser"'
Autor:
El Farsy, Abderzak
La thèse s’inscrit dans la problématique du dépôt de couches minces en procédés de pulvérisation réactive cathodique magnétron continu basse puissance (R-DC) et pulsé haute puissance (R-HiPIMS). Le mode réactif consiste à ajouter, dans
Externí odkaz:
http://www.theses.fr/2019LORR0085
Autor:
El Farsy, Abderzak
Publikováno v:
Physique [physics]. Université de Lorraine, 2019. Français. ⟨NNT : 2019LORR0085⟩
The growth of thin layers in reactive-direct current magnetron sputtering (R-DC) and reactive-high power impulse magnetron sputtering (R-HiPIMS) processes is the general framework of this PhD. Reactive processes consist in the addition, in argon gas,
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::6717fc18ab26891846eddc14639f69d0
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-02351136/file/DDOC_T_2019_0085_EL_FARSY.pdf
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-02351136/file/DDOC_T_2019_0085_EL_FARSY.pdf
Autor:
Désécures, Mikaël
La pulvérisation cathodique magnétron est un procédé plasma très répandu dans l'industrie pour le dépôt de couches minces. Néanmoins, les exigences des nouvelles applications nécessitent de mieux comprendre, contrôler et maîtriser les pro
Externí odkaz:
http://www.theses.fr/2015LORR0137/document
Autor:
Désécures, Mikaël
Publikováno v:
Autre [cond-mat.other]. Université de Lorraine, 2015. Français. ⟨NNT : 2015LORR0137⟩
Magnetron sputter deposition is an established and widely used method for the growth of thin films. Nevertheless, the high level of expectations regarding new applications require a better understanding, controlling, mastering of basic processes gove
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::68c5d379656d526a36db9c40282642c2
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01752030
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01752030