Výsledky vyhledávání - "Fluorescence induite par diode laser"

Dissertation/ Thesis

Mise au point de la fluorescence induite par diode laser résolue en temps : application à l'étude du transport des atomes de tungstène pulvérisés en procédé magnétron continu ou pulsé haute puissance

Autor: Désécures, Mikaël

La pulvérisation cathodique magnétron est un procédé plasma très répandu dans l'industrie pour le dépôt de couches minces. Néanmoins, les exigences des nouvelles applications nécessitent de mieux comprendre, contrôler et maîtriser les pro

Externí odkaz: http://www.theses.fr/2015LORR0137/document

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Caractérisation du transport des espèces neutres et ionisées en procédé réactif HiPIMS par fluorescence induite par diode laser

Autor: Boivin, D., Farsy, A. El, Poucques, L. De, Noël, C., Cuynet, S., Bougdira, J.

Publikováno v: 15ieme Congrès de la Société Française de Physique, division Plasmas
15ieme Congrès de la Société Française de Physique, division Plasmas, Jun 2018, Bordeaux, France

International audience

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::df69d7388e843059321e805653ac8463
https://hal.archives-ouvertes.fr/hal-02372090

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Dissertation/ Thesis

Détermination des fonctions de distribution des flux des espèces neutres et ionisées en procédé HiPIMS et corrélations avec les couches minces de type TiN déposées

Autor: El Farsy, Abderzak

La thèse s’inscrit dans la problématique du dépôt de couches minces en procédés de pulvérisation réactive cathodique magnétron continu basse puissance (R-DC) et pulsé haute puissance (R-HiPIMS). Le mode réactif consiste à ajouter, dans

Externí odkaz: http://www.theses.fr/2019LORR0085

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Determination of flux distribution functions of neutral and ionized species in HiPIMS process and correlations with deposited TiN thin layers

Autor: El Farsy, Abderzak

Publikováno v: Physique [physics]. Université de Lorraine, 2019. Français. ⟨NNT : 2019LORR0085⟩

The growth of thin layers in reactive-direct current magnetron sputtering (R-DC) and reactive-high power impulse magnetron sputtering (R-HiPIMS) processes is the general framework of this PhD. Reactive processes consist in the addition, in argon gas,

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::6717fc18ab26891846eddc14639f69d0
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-02351136/file/DDOC_T_2019_0085_EL_FARSY.pdf

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Development of time resolved diode laser induced fluorescence: Application for study of W atoms transport in direct current and pulsed magnetron discharge

Autor: Désécures, Mikaël

Publikováno v: Autre [cond-mat.other]. Université de Lorraine, 2015. Français. ⟨NNT : 2015LORR0137⟩

Magnetron sputter deposition is an established and widely used method for the growth of thin films. Nevertheless, the high level of expectations regarding new applications require a better understanding, controlling, mastering of basic processes gove

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::68c5d379656d526a36db9c40282642c2
https://hal.univ-lorraine.fr/tel-01752030

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