Zobrazeno 1 - 10
of 191
pro vyhledávání: '"Flavell W.R."'
Autor:
Spencer, B.F., Maniyarasu, S., Reed, B.P., Cant, D.J.H., Ahumada-Lazo, R., Thomas, A.G., Muryn, C.A., Maschek, M., Eriksson, S.K., Wiell, T., Lee, T.-L., Tougaard, S., Shard, A.G., Flavell, W.R.
Publikováno v:
In Applied Surface Science 1 March 2021 541
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Thomas, A.G., Flavell, W.R., Chatwin, C.P., Kumarasinghe, A.R., Rayner, S.M., Kirkham, P.F., Tsoutsou, D., Johal, T.K., Patel, S.
Publikováno v:
In Surface Science 2007 601(18):3828-3832
Autor:
Thomas, A.G., Flavell, W.R., Chatwin, C., Rayner, S., Tsoutsou, D., Kumarasinghe, A.R., Brete, D., Johal, T.K., Patel, S., Purton, J.
Publikováno v:
In Surface Science 2005 592(1):159-168
Autor:
Barilo, S.N. *, Shiryaev, S.V., Bychkov, G.L., Plakhty, V.P., Shestak, A.S., a<%2Fce%3Asup>%2C+A%2EG%2E%22">Soldatov
Autor:
Lewis N.K., Clayburn N.B., Brunkow E., Gay T.J., Lassailly Y., Fujii J., Vobornik I., Flavell W.R., Seddon E.A.
Publikováno v:
Lewis, N, Clayburn, N B, Brunkow, E, Gay, T J, Lassailly, Y, Fujii, J, Vobornik, I, Flavell, W & Seddon, E 2017, ' Domain formation mechanism of the Si(110)\16 2" reconstruction ', Physical Review B . https://doi.org/10.1103/PhysRevB.95.205306
Physical Review B 95 (2017). doi:10.1103/PhysRevB.95.205306
info:cnr-pdr/source/autori:Lewis N.K.; Clayburn N.B.; Brunkow E.; Gay T.J.; Lassailly Y.; Fujii J.; Vobornik I.; Flavell W.R.; Seddon E.A./titolo:Domain formation mechanism of the Si(110) " 16×2 " reconstruction/doi:10.1103%2FPhysRevB.95.205306/rivista:Physical Review B/anno:2017/pagina_da:/pagina_a:/intervallo_pagine:/volume:95
Physical Review B 95 (2017). doi:10.1103/PhysRevB.95.205306
info:cnr-pdr/source/autori:Lewis N.K.; Clayburn N.B.; Brunkow E.; Gay T.J.; Lassailly Y.; Fujii J.; Vobornik I.; Flavell W.R.; Seddon E.A./titolo:Domain formation mechanism of the Si(110) " 16×2 " reconstruction/doi:10.1103%2FPhysRevB.95.205306/rivista:Physical Review B/anno:2017/pagina_da:/pagina_a:/intervallo_pagine:/volume:95
The main factor that determines which of the two domains forms upon reconstruction of the Si(110) "16×2" surface has been investigated. Low-energy electron diffraction (LEED) and scanning tunneling microscopy (STM) images showed that the domain orie
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=dedup_wf_001::5f3bf80678103ce5b9f6154a2c4807cf
https://www.research.manchester.ac.uk/portal/en/publications/domain-formation-mechanism-of-the-si11016-2-reconstruction(b7b00789-30db-49a5-9a02-492ae5081d59).html
https://www.research.manchester.ac.uk/portal/en/publications/domain-formation-mechanism-of-the-si11016-2-reconstruction(b7b00789-30db-49a5-9a02-492ae5081d59).html
Autor:
Thomas, A.G. *, Hollingworth, J., Hashim, Z., Khan, N., Flavell, W.R., Roper, M., Hancock, F.E.
Publikováno v:
In Surface Science 2000 454:131-136
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.