Zobrazeno 1 - 8
of 8
pro vyhledávání: '"Flaschmann, R."'
Autor:
Flaschmann, R., Schmid, C., Zugliani, L., Strohauer, S., Wietschorke, F., Grotowski, S., Jonas, B., Müller, M., Althammer, M., Gross, R., Finley, J. J., Müller, K.
We investigate the growth conditions for thin (less than 200 nm) sputtered aluminum (Al) films. These coatings are needed for various applications, e.g. for advanced manufacturing processes in the aerospace industry or for nanostructures for quantum
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2305.17980
Autor:
Flaschmann, R., Zugliani, L., Schmid, C., Spedicato, S., Strohauer, S., Wietschorke, F., Flassig, F., Finley, J. J., Müller, K.
We investigated the timing jitter of superconducting nanowire single-photon detectors (SNSPDs) and found a strong dependence on the detector response. By varying the multi-layer structure, we observed changes in pulse shape which are attributed to ca
Externí odkaz:
http://arxiv.org/abs/2208.07866
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Autor:
Flaschmann R; Walter Schottky Institute and Department for Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany. rasmus.flaschmann@wsi.tum.de., Zugliani L; Walter Schottky Institute and Department for Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany. rasmus.flaschmann@wsi.tum.de., Schmid C; Walter Schottky Institute and Department for Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany. rasmus.flaschmann@wsi.tum.de., Spedicato S; Walter Schottky Institute and Physics Department, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany., Strohauer S; Walter Schottky Institute and Physics Department, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany., Wietschorke F; Walter Schottky Institute and Physics Department, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany., Flassig F; Walter Schottky Institute and Physics Department, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany., Finley JJ; Walter Schottky Institute and Physics Department, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany., Müller K; Walter Schottky Institute and Department for Electrical and Computer Engineering, Technical University of Munich, 85748 Garching, Germany. rasmus.flaschmann@wsi.tum.de.
Publikováno v:
Nanoscale [Nanoscale] 2023 Jan 19; Vol. 15 (3), pp. 1086-1091. Date of Electronic Publication: 2023 Jan 19.