Zobrazeno 1 - 10 of 35 pro vyhledávání: '"Flamm, D. L."'
1
Akademický článek
The plasma oxidation of CF4 in a tubular-alumina fast-flow reactor.
Autor: Smolinsky, G., Flamm, D. L.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jul1979, Vol. 50 Issue 7, p4982-4987, 6p
Zobrazit plný text záznamu
2
Akademický článek
Plasma etching of Si and SiO2-The effect of oxygen additions to CF4 plasmas.
Autor: Mogab, C. J., Adams, A. C., Flamm, D. L.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jul1978, Vol. 49 Issue 7, p3796-3803, 8p
Zobrazit plný text záznamu
3
Akademický článek
On the role of oxygen and hydrogen in diamond-forming discharges.
Autor: Mucha, J. A., Flamm, D. L., Ibbotson, D. E.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 5/1/1989, Vol. 65 Issue 9, p3448, 5p
Zobrazit plný text záznamu
4
Akademický článek
Diamond crystal growth by plasma chemical vapor deposition.
Autor: Chang, C.-P, Flamm, D. L., Ibbotson, D. E., Mucha, J. A.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; 3/1/1988, Vol. 63 Issue 5, p1744, 5p, 4 Black and White Photographs, 1 Diagram, 1 Graph
Zobrazit plný text záznamu
5
Akademický článek
Plasmaless dry etching of silicon with fluorine-containing compounds.
Autor: Ibbotson, D. E., Mucha, J. A., Flamm, D. L., Cook, J. M.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Nov1984, Vol. 56 Issue 10, p2939-2942, 4p
Zobrazit plný text záznamu
6
Akademický článek
Anisotropic etching of SiO2 in low-frequency CF4/O2 and NF3/Ar plasmas.
Autor: Donnelly, V. M., Flamm, D. L., Dautremont-Smith, W. C., Werder, D. J.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jan1984, Vol. 55 Issue 1, p242-252, 11p
Zobrazit plný text záznamu
7
Akademický článek
Reaction of fluorine atoms with SiO2.
Autor: Flamm, D. L., Mogab, C. J., Sklaver, E. R.
Publikováno v: Journal of Applied Physics; Oct1979, Vol. 50 Issue 10, p6211-6213, 3p
Zobrazit plný text záznamu
8
Akademický článek
Application of a low-pressure radio frequency discharge source to polysilicon gate etching.
Autor: Cook, J. M., Ibbotson, D. E., Flamm, D. L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics Processing & Phenomena; 1990, Vol. 8 Issue 1, p1-4, 4p
Zobrazit plný text záznamu
9
Akademický článek
Etching results and comparison of low pressure electron cyclotron resonance and radio frequency discharge sources.
Autor: Cook, J. M., Ibbotson, D. E., Foo, P. D., Flamm, D. L.
Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part A-Vacuums, Surfaces & Films; 1990, Vol. 8 Issue 3, p1820-1824, 5p
Zobrazit plný text záznamu
10
Akademický článek
Operation of a helical resonator plasma source.
Autor: Niazi, K, Lichtenberg, A J, Lieberman, M A, Flamm, D L
Publikováno v: Plasma Sources Science & Technology; 1994, Vol. 3 Issue 4, p482-495, 14p
Zobrazit plný text záznamu

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje