Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

The relationship between microstructure and electrical breakdown in cathodic arc deposited hafnium oxide films.

Autor: Field, M. R., Partridge, J. G., Mayes, E. H., Latham, K., McCulloch, D. G.

Publikováno v: Journal of Applied Physics; Jul2011, Vol. 110 Issue 1, p014108, 6p, 2 Black and White Photographs, 2 Charts, 5 Graphs

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

The structure and electron energy loss near edge structure of tungsten oxide thin films prepared by pulsed cathodic arc deposition and plasma-assisted pulsed magnetron sputtering

Autor: Field, M. R., McCulloch, D. G., Lim, S. N. H., Anders, A., Keast, V. J., Burgess, R. W.

Publikováno v: Field, M. R.; McCulloch, D. G.; Lim, S. N. H.; Anders, A.; Keast, V. J.; & Burgess, R. W.(2008). The structure and electron energy loss near edge structure of tungsten oxide thin films prepared by pulsed cathodic arc deposition and plasma-assisted pulsed magnetron sputtering. Journal of Physics: Condensed Matter, 20. Lawrence Berkeley National Laboratory: Lawrence Berkeley National Laboratory. Retrieved from: http://www.escholarship.org/uc/item/7t14s5v6

The microstructure and energy-loss near-edge structure (ELNES) of pulsed cathodic arc and pulsed magnetron sputtered WO3 thin films were investigated. It was found that the cathodic arc deposited material consisted of the alpha-WO3 phase with a high

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=od_______325::13aa844be44062d077c3a572ab6c654f
http://www.escholarship.org/uc/item/7t14s5v6