Ion energy distributions and optical emission spectra in NF3-based process chamber cleaning plasmas.

Autor: Hsueh, Hsin-Pai, McGrath, Robert T., Ji, Bing, Felker, Brian S., Langan, John G., Karwacki, Eugene J.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; 2001, Vol. 19 Issue 4, p1346-1357, 12p

Study of Silicon Surface Roughness by Atomic Force Microscopy.

Autor: Gilicinski, Andrew G., Rynders, Rebecca M., Beck, Scotjt E., Strausser, Yale E., Stets, James R., Felker, Brian S., Bohling, David A.

Publikováno v: MRS Online Proceedings Library; 01/27/1993, Vol. 324, pN.PAG-1, 1p

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.