Zobrazeno 1 - 8 of 8 pro vyhledávání: '"Fanton, Pierre"'
1
Robust 2D patterns process variability assessment using CD-SEM contour extraction offline metrology
Autor: Sanchez, Martha, Ukraintsev, Vladimir, Lakcher, Amine, Le-Gratiet, Bertrand, Ducote, Julien, Fanton, Pierre, Kiers, Ton, Gemmink, Jan-Willem, Hunsche, Stefan, Prentice, Christopher, Besacier, Maxime
Publikováno v: SPIE Advanced Lithography
SPIE Advanced Lithography, 2017, San Jose, United States. ⟨10.1117/12.2257876⟩
Today’s CD-SEM metrology is challenged when it comes to measuring complex features found in patterning hotspots (like tip to tip, tip to side, necking and bridging). Metrology analysis tools allow us to extract SEM contours of a feature and convert
Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::ca2196813f1f25b1059025b854b8351f
https://doi.org/10.1117/12.2257876
Zobrazit plný text záznamu
7
Conference
EDMES: an expert system for process optimization in microlithography.
Autor: Fanton, Pierre, Mourier, Thierry, Poncet, Dominique, Vinet, Francoise
Publikováno v: Proceedings of SPIE; 11/ 1/1994, Issue 1, p267-277, 11p
Zobrazit plný text záznamu
8
Conference
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Vyhledávací nástroje:

Upřesnit hledání

Omezení vyhledávání
Plný text Recenzováno Digitální knihovna AV ČR
Zdroje