Zobrazeno 1 - 10
of 232
pro vyhledávání: '"Fallica, R."'
Autor:
Matveevskii K; University of Twente Drienerlolaan 5 Enschde 7522 NB The Netherlands., Nikolaev KV; NRC Kurchatov Institute Moscow Russian Federation., Fallica R; imec Leuven Belgium., Beckers D; Malvern Panalytical BV, Almelo, The Netherlands., Gateshki M; Malvern Panalytical BV, Almelo, The Netherlands., Kharchenko A; Malvern Panalytical BV, Almelo, The Netherlands., Spanjer B; University of Twente Drienerlolaan 5 Enschde 7522 NB The Netherlands., Rogachev A; NRC Kurchatov Institute Moscow Russian Federation., Yakunin S; NRC Kurchatov Institute Moscow Russian Federation., Ackermann M; University of Twente Drienerlolaan 5 Enschde 7522 NB The Netherlands., Makhotkin IA; University of Twente Drienerlolaan 5 Enschde 7522 NB The Netherlands.
Publikováno v:
Journal of applied crystallography [J Appl Crystallogr] 2024 Aug 19; Vol. 57 (Pt 5), pp. 1288-1298. Date of Electronic Publication: 2024 Aug 19 (Print Publication: 2024).
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 1 May 2013 370:323-327
Publikováno v:
In Thin Solid Films 30 April 2013 533:66-69
Autor:
Fallica R; IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium., Mahne N; CNR-IOM, S.S. 14, Km. 163.5, 34012 Trieste, Italy., Conard T; IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium., Vanleenhove A; IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium., de Simone D; IMEC, Kapeldreef 75, 3001 Leuven, Belgium., Nannarone S; CNR-IOM, S.S. 14, Km. 163.5, 34012 Trieste, Italy.
Publikováno v:
ACS applied materials & interfaces [ACS Appl Mater Interfaces] 2023 Jul 26; Vol. 15 (29), pp. 35483-35494. Date of Electronic Publication: 2023 Jul 14.
Autor:
Longo, M., Salicio, O., Wiemer, C., Fallica, R., Molle, A., Fanciulli, M., Giesen, C., Seitzinger, B., Baumann, P.K., Heuken, M., Rushworth, S.
Publikováno v:
In Journal of Crystal Growth 2008 310(23):5053-5057
Autor:
Fallica, R., Haitjema, J., Wu, L., Castellanos Ortega, S., Brouwer, F., Ekinci, Y., Panning, E.M., Goldberg, K.A.
Publikováno v:
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII: 27 February–2 March 2017, San Jose, California, United States
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII
Extreme Ultraviolet (EUV) Lithography VIII
The experimental measurement of the time-dependent absorption of photoresists at extreme ultraviolet wavelength is of great interest for the modeling of the lithographic process. So far, several technical challenges have made the accurate determinati
Externí odkaz:
https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::672df16f9d7fed84e4ae6e8535b48b09
https://doi.org/10.1117/12.2257240
https://doi.org/10.1117/12.2257240
Autor:
Luo, Linbin1 (AUTHOR) luolb24@mails.tsinghua.edu.cn, Shan, Shuonan1 (AUTHOR) shansn24@mails.tsinghua.edu.cn, Li, Xinghui1,2 (AUTHOR) li.xinghui@sz.tsinghua.edu.cn
Publikováno v:
Sensors (14248220). Oct2024, Vol. 24 Issue 20, p6617. 44p.
Autor:
Ji, Zhichao1,2 (AUTHOR) 2120210201@mail.nankai.edu.cn, Gan, Zenghua2 (AUTHOR) 1120190080@mail.nankai.edu.cn, Wang, Yu2 (AUTHOR) 2120230264@mail.nankai.edu.cn, Liu, Zhijian2 (AUTHOR) yangdonghao0305@126.com, Yang, Donghao2 (AUTHOR) 2210369@mail.nankai.edu.cn, Fan, Yujie2 (AUTHOR) liyigang@nankai.edu.cn, Li, Wenhua2 (AUTHOR) liwenhua@nankai.edu.cn, Drevensek-Olenik, Irena3,4 (AUTHOR) irena.drevensek@ijs.si, Li, Yigang2 (AUTHOR), Zhang, Xinzheng2,5 (AUTHOR) liwenhua@nankai.edu.cn
Publikováno v:
Materials (1996-1944). Oct2024, Vol. 17 Issue 19, p4810. 13p.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
Akademický článek
Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.