Atom lithography without laser cooling

Autor: Smeets, B., van der Straten, P., Meijer, T., Fabrie, C. G. C. H. M., van Leeuwen, K. A. H.

Using direct-write atom lithography, Fe nanolines are deposited with a pitch of 186 nm, a full width at half maximum (FWHM) of 50 nm, and a height of up to 6 nm. These values are achieved by relying on geometrical collimation of the atomic beam, thus

Externí odkaz: http://arxiv.org/abs/0908.2733

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Magnetization losses in submicrometer CoFeB dots etched in a high ion density Cl2-based plasma.

Autor: Fabrie, C. G. C. H. M., Kohlhepp, J. T., Swagten, H. J. M., Koopmans, B., Andriesse, M. S. P., Van der Drift, E.

Publikováno v: Journal of Vacuum Science & Technology: Part B-Microelectronics & Nanometer Structures; Nov/Dec2006, Vol. 24 Issue 6, p2627-2630, 4p, 1 Black and White Photograph, 1 Diagram, 2 Graphs

Real-time monitoring of plasma oxidation dynamics of subnanometer Al2O3 barriers for magnetic tunnel junctions.

Autor: Fabrie, C. G. C. H. M., Knechten, K., Kohlhepp, J. T., Swagten, H. J. M., Koopmans, B., de Jonge, W. J. M.

Publikováno v: Applied Physics Letters; 1/16/2006, Vol. 88 Issue 3, p031909, 3p, 4 Graphs