Role of the metal supply pathway on silicon patterning by oblique ion beam sputtering

Autor: A. Redondo-Cubero, F.J. Palomares, K. Lorenz, J. Rubio-Zuazo, R. Hübner, F.J. Mompeán, M. García-Hernández, G.R. Castro, L. Vázquez

Publikováno v: Biblos-e Archivo. Repositorio Institucional de la UAM
instname
Applied Surface Science 580(2022), 152267
'Applied Surface Science ', vol: 580, pages: 152267-1-152267-13 (2022)

The dynamics of the pattern induced on a silicon surface by oblique incidence of a 40 keV Fe ion beam is studied. The results are compared with those obtained for two reference systems, namely a noble gas ion beam either without or with Fe co-deposit

Externí odkaz: https://explore.openaire.eu/search/publication?articleId=doi_dedup___::a795ce0ea86610012d3ae670793cc3c6
http://hdl.handle.net/10486/704747

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.

Tento výsledek nelze pro nepřihlášené uživatele zobrazit.
K zobrazení výsledku je třeba se přihlásit.